為什么選擇PMS：

· SEMI&FPD薄膜沉積工藝中，以高壓噴射HOT N2的方式幫助輸送管路內(nèi)的副產(chǎn)物及未反應氣體，防止管道內(nèi)堵塞的發(fā)生；
· 稀釋: 利用惰性氣體稀釋，中和副產(chǎn)物，并延遲管道內(nèi)粉塵的堆積；
· 利用熱能: 加熱后的氮氣可以通過激活熱能促進副產(chǎn)物的分子活動，并防止粉塵的凝固；
· 輸送: 采用專業(yè)的空氣動力學原理，通過高壓噴射HOT N2加速了副產(chǎn)物在管道內(nèi)的流速，尤其提高了沉積高危區(qū)“管道壁面”上的產(chǎn)物流速；
· 市場與需求：半導體與平板顯示行業(yè)FAB廠務，CVD、ETCH、ALD等沉積設備商，2000sets per year；